能量分辨率144±5eV
测量对象元素含量
测量范围N-U
测量精度1ppm
适用范围电子电器、金属、塑料、涂料
探测器SDD
含量范围ppm--
电源电压220V
分析时间200秒左右
检测限1ppm(基材不同有所变化)
X荧光光谱技术的发展
1959年我国从苏联引入了照相式X荧光光谱仪,这是中国次引进X荧光光谱分析仪。 1895年,德国物理学家伦琴发现了X射线。 1896年,法国物理学家乔治发现了X射线荧光。 1948年,弗里德曼和伯克斯研制了台商品性的波长色散X射线荧光光谱仪。
1969年,美国海军实验室研制真正意义上的EDXRF光谱仪。从上面的X荧光光谱仪的初始发展过程来看,荧光光谱分析仪这项技术比较年轻,从发现X射线荧光到出现X射线荧光光谱分析仪都不过一**,后应用到各种领域中的时间也才几十年。同样,我国X荧光光谱分析也是光谱分析领域中较年轻的分析手段之一,1959年,我国请苏联来华在应化所举办了x光谱学习班,随后,我国不断开展X荧光光谱学习班,为之后中国X荧光光谱分析技术打好了基础。
1981年,我国X光谱分析工作者出版了自己编著的书籍,由此可见,在这些年中,我国研究X荧光光谱的学者们做了不少的工作。
从上,我们知道了很多厂家都喜欢购买进口光谱仪,还了解我国引进台X荧光光谱仪后的发展,明明前后研制的时间差不多,几年的差距为什么技术差别那么大,我们是否真正克服了这项技术。1959年,我国研制了台X荧光光谱分析仪,但是这是大型的X荧光光谱分析仪(我们现在购买的X荧光仪器都是手持式的,方便易携带)。当年有单位购买了国产的大型X荧光光谱仪后,不仅所发挥的作用不大,还经常发生故障,不能充分发挥作用,因此,我国X荧光光谱分析发展受到了影响,大部分工作还是用进口仪器完成。 在X荧光光谱仪的研制与投产上学者与研制者们集聚力量,对X荧光光谱技术进行分析,之后的成果斐然。北京师范大学在X荧光光谱分析在表面微区,微试样的分析中做出了开创性的工作。王燕,赵敏等学者对X荧光强度与含量的线性关系进行了分析,并对定量分析方法进行了模拟运算,总结了优的计算方法。周云泷等学者通过计算机软件分析计算,对一些微量元素进行分析,达到较为满意的分析结果。之后的一些研究因篇幅原因不再一一概述,但之后越来越多的学者们都为X荧光光谱分析付出了努力。

针对EDX 1800B在各个领域的广泛应用,根据优化产品性能和提高安全防护等级的需求,特别设计该款EDX 1800E。应用新一代的高压电源和X光管,提高产品的可靠性;利用新X光管的大功率提高仪器的测试效率。

X荧光光谱仪分析法中不同样品有不同的制样方法。金属样品如果大小形状合适,或者经过简单的切割达到X 荧光光谱仪分析的要求,只需表面抛光,液体样品可以直接分析,大气尘埃通常收集在滤膜上直接进行分析。而粉末样品的制样方法就比较复杂。这里只对常见的固体和粉末样品的制样方法进行讨论,液体样品就不再讨论。
1、固体样品的主要缺点是,一般情况下不能采用各种添加法:如标准添加(或稀释)法、低(或高)吸收稀释法、内标法等。若所有样品中已经含有适当的、一定浓度的内标元素,则上述的后两种方法还是可用的。另外,也不能进行化学浓缩和分离。表面结构和成分有时也难取得一致。可能弄不到现成的标样,而人工合成又很困难。
2、制样方法,固体样品可用未加工的或经加工的大块材料或原材料(如生铁,钢锭等)制取。另外,也可把熔炉的熔融物直接浇铸到小模子里。为防止缓慢冷却时发生的成分偏析,好用激冷。经抛光的原材料,或经砂轮磨打的表面,一般是令人满意的,但对后者仍需进一步抛光,以减少表面粗糙度,并除去加工损伤的和没有代表性的表面层。抛光的方法有许多种,包括:
(1)行带式磨削,然后用抛光器抛光,其砂纸粒度依次由粗变细
(2)用车床、铣床或刨床进行加工。对于薄板和箔,必须仔细操作,以保证表面不出现翘曲、和折痕。特别要注意不能照射时间太长,以免受热变形。薄板和箔必须衬上一块刚性支撑物,或把它们粘在一起。
制备固体样品时要注意:
(1) 样品的分析面不能有气孔,析出物和多孔质现象。
(2) 防止偏析。造成偏析的因素:合金的组成和密度;铸模的材料、形状和厚度;合金熔化温度、浇铸温度和被浇铸样品的冷却速度等。

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