能量分辨率144±5eV
测量对象元素含量
测量范围N-U
测量精度1ppm
适用范围电子电器、金属、塑料、涂料
探测器SDD
含量范围ppm--
电源电压220V
分析时间200秒左右
检测限1ppm(基材不同有所变化)
多功能分析仪 Ux-310
Ux-310 多功能分析仪应对RoHS指令,无卤指令,WEEE指令,土壤、矿石成分分析,铜合金、不锈钢牌号识别的机型。三重射线防护系统;人性化操作界面;即可以管控RoHS指令的Pb、Cd、Hg、PBB和PBDE中的Br、六价铬的Cr和无卤指令中的Cl和Br元素,又能够对土壤、矿石成分分析,铜合金、不锈钢牌号识别。可完全满足客户环保管控要求和材料识别。精心设计的开放式工作曲线功能,特别适用于多材料的工厂制程控制。
应用领域:
用于RoHS指令管控的产品:大型家电、小型家电、信息技术及通讯设备、电动工具、玩具等设备
用于无卤指令管控的产品:用含有Cl、Br等元素的阻燃剂作为原料的产品
用于铜合金、铁合金、铝合金、钛合金、高温合金及各种混杂合金等合金材料内元素成分分析和含量测试
技术指标:
1、仪器尺寸:680(W)x400(D)x390(H)mm
2、样品腔尺寸:300*360*100mm;
3、测试元素范围:S-U中的元素
4、检测范围:1ppm-
5、RoHS检测限:Pb≤5ppm,Cd/Cr/Hg/Br≤2ppm,Cl≤50ppm
6、测试样品类型:固体、粉末和液体
7、测量时间 :120-400s ( 系统自动调整 )
8、佳分辨率:见下面探测系统详细参数说明
9、准直器:Φ2mm、Φ5mm
10、滤光片:8种复合滤光片自动切换
11、CCD观察:130万像素高清CCD
12、样品微动范围:XY8mm
13、输入电源:AC220V~240V,50/60Hz
14、额定功率:350W
15、重量:约45Kg
16、工作环境温度:温度15-30℃
17、工作环境相对湿度:≤85%(不结露)

粉末压片制样法主要分三步:干燥焙烧、混合研磨、压片。有粉末直接压片、粉末稀释压片、用粘结剂衬底和镶边等方法。
①结剂、助磨剂及其他添加剂
当样品本身的粘结力较小时,选择一种合适的粘结剂很重要。粘结剂有固体和液体两种,常用的固体粘结剂有、甲基纤维素、聚乙烯、石蜡、淀粉、滤纸或色谱纸浆、碳酸锂等。用石蜡和苯乙烯的混合物作粘结剂。粘结剂的加入量为样品的10%-50%,过多会影响轻元素的检出限。粘结剂的加入会使分析线强度下降,如果粘结剂颗粒度较大,还会引入颗粒度效应。从吸水性、样品的坚固性、抽真空时间、对仪器污染、制样成功率、成本等方面对几种常用的粘结剂作了比较, 得出低压聚乙烯是一种较理想的粘结剂。
液体粘结剂有、聚乙烯醇(PVA)等。使用液体粘结剂易制成均匀、重复性好的压片,制得的样片加坚固耐用。
在制备试样和标样过程中,除粘结剂外,还可加入助磨剂、内标元素、稀释剂等,液体粘结剂或助磨剂的大优点是不用称量,但压片后要烘干,加入的量也不可过多,一般100g样品中加入几毫升到十几毫升。固体粘结剂和助磨剂等需要准确称量,并且要混合均匀,因此,制样较麻烦,如果加上清洗粉碎容器的时间,有时甚至比熔融法长。在大批量的分析中,多采用直接压片或衬底压片法。
②粉碎技术
可用玛瑙或碳化钨研钵人工研磨,现在较多使用机械振动磨或球磨机,效率很高。一般样品均可粉碎至74μm以下(通过200目筛子),好的可以达到20μm左右。随着粉碎时间的延长,颗粒度减小到一定程度不再变细,如果继续粉碎,反而会发生“团聚”现象。要提高粉碎效率,可以加入固体或液体助磨剂。粉碎时间越长,粉碎容器带来的污染越严重,因此,选择一种合适的粉碎容器很重要。要比较这种污染,可以分析一种很硬的物质(如石英)经粉碎后的污染情况,或对比两种不同粉碎方法的分析结果。在分析痕量元素时,为了提高分析的灵敏度和准确度,这是非常必要的。还有一种污染,是不同粉碎试样间的相互污染。每次粉碎后都要保证容器清洗干净,当样品量较多时,粉碎前可用少量样品预“清洗”两次。
③压片
压样设备常见的有手动或电动液压机,粉末样品装入铝杯或铝环(或塑料环)中,在相应的模具中加压成型。在真空光谱仪中,粉末压片可能会含有空气或其它气体而发生溅射,既破坏了试样表面,又污染了样品室。可先在真空中压制成块,或在氦气光路中测量。为了减少压入片内空气的量,在装样时可轻拍样品,加压时要逐步压力,同时还要保压一定的时间。X荧光光谱仪分析是一种表面分析,尤其对于轻元素,分析时有效层厚度只有几个至十几个μm,表面的污染是致命的问题,同时还要求表面平滑。所以每次压片后都要把模具的表面洗净,隔一段时间还要对塞柱表面(对应于样片被测面)适当抛光。试样在保存过程中也要防止表面污染、表面破损、吸潮、氧化、吸附空气等。好是压片后尽快测量,对于标样、管理样等需长期保存的试样,以粉末状态密封保存较好,需要时临时压片。
④标准样品的制备
X荧光光谱仪分析是一种相对分析,标准样品的制备直接影响分析的准确度。粉末压片法的标样来源主要有三个:用其他方法分析试样;在成分已知的标样中加入某些成分;人工合成。

X荧光光谱技术的发展
1959年我国从苏联引入了照相式X荧光光谱仪,这是中国次引进X荧光光谱分析仪。 1895年,德国物理学家伦琴发现了X射线。 1896年,法国物理学家乔治发现了X射线荧光。 1948年,弗里德曼和伯克斯研制了台商品性的波长色散X射线荧光光谱仪。
1969年,美国海军实验室研制真正意义上的EDXRF光谱仪。从上面的X荧光光谱仪的初始发展过程来看,荧光光谱分析仪这项技术比较年轻,从发现X射线荧光到出现X射线荧光光谱分析仪都不过一**,后应用到各种领域中的时间也才几十年。同样,我国X荧光光谱分析也是光谱分析领域中较年轻的分析手段之一,1959年,我国请苏联来华在应化所举办了x光谱学习班,随后,我国不断开展X荧光光谱学习班,为之后中国X荧光光谱分析技术打好了基础。
1981年,我国X光谱分析工作者出版了自己编著的书籍,由此可见,在这些年中,我国研究X荧光光谱的学者们做了不少的工作。
从上,我们知道了很多厂家都喜欢购买进口光谱仪,还了解我国引进台X荧光光谱仪后的发展,明明前后研制的时间差不多,几年的差距为什么技术差别那么大,我们是否真正克服了这项技术。1959年,我国研制了台X荧光光谱分析仪,但是这是大型的X荧光光谱分析仪(我们现在购买的X荧光仪器都是手持式的,方便易携带)。当年有单位购买了国产的大型X荧光光谱仪后,不仅所发挥的作用不大,还经常发生故障,不能充分发挥作用,因此,我国X荧光光谱分析发展受到了影响,大部分工作还是用进口仪器完成。 在X荧光光谱仪的研制与投产上学者与研制者们集聚力量,对X荧光光谱技术进行分析,之后的成果斐然。北京师范大学在X荧光光谱分析在表面微区,微试样的分析中做出了开创性的工作。王燕,赵敏等学者对X荧光强度与含量的线性关系进行了分析,并对定量分析方法进行了模拟运算,总结了优的计算方法。周云泷等学者通过计算机软件分析计算,对一些微量元素进行分析,达到较为满意的分析结果。之后的一些研究因篇幅原因不再一一概述,但之后越来越多的学者们都为X荧光光谱分析付出了努力。

x荧光光谱仪主要特点
1.检测对象:液体/固体/粉末-固体样品:点射配件-液体样品:样品池配件,适用于8mm瓶,NMR管和MP管
2.显微镜:可选显微镜配件
3.便携式:-重量轻-远程控制-蓝牙无线数据传输(或USB)-电池可持续运作5小时-数据库可无限扩充
4.**小的高性能光谱
5.120mW激发光源,功率可变
6.荧光成像可选
7.达到限衍射的成像和光谱
8.数据库可无限扩展
http://rohsyiqi.b2b168.com