能量色散x荧光光谱仪 x射线荧光光谱仪课件
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产品描述

能量分辨率144±5eV 测量对象元素含量 测量范围N-U 测量精度1ppm 适用范围电子电器、金属、塑料、涂料 探测器SDD 含量范围ppm-- 电源电压220V 分析时间200秒左右 检测限1ppm(基材不同有所变化)
型号:3600B
仪器介绍
EDX3600B X荧光光谱仪是利用XRF技术解决国内水泥厂、钢铁公司对复杂成份、多类型榈中元素的快速、准确分析。该技术的主要特征为:利用低能X光激发待测元素,对Si、S、AI、Na、Mg等轻元素有良好的激发效果,并且测试时间短,大大提高了检测效率和工作效率; 采用UHRD探测器,具有良好的能量线性和能量分辨率,及良好的能谱特性,较高的峰背比; 采用自动稳谱装置,保证了仪器工作的一致性; 利用解谱技术使谱峰分解,使采用UHRD探测器的分析仪对Si、S、AI等轻元素的测试具有和的分析精度;采用相似自动分类技术使分类准确,有效地克服基效应对测量带来的影响;采用多参数的线性回归方法,使元素间的吸收、增强效应得到明显的消除。
性能特点
的水泥、钢铁、矿料等全元素分析,亦可用于镀层检测和RoHS检测。
内置信噪比增强器可有效提高仪器信号处理能力25倍。
针对不同样品可自动切换准直器和滤光片。
电制冷UHRD探测器,摒弃液氮制冷。
智能全元素分析软件,与仪器硬件相得益彰,且操作简单。
技术指标
测量元素范围:从钠(Na)至铀(U)
元素含量分析范围:1ppm—
同时分析元素:24种元素同时分析
测量镀层:镀层厚度测量薄至0.005微米,可分析5层以上的镀层
分析精度:0.05%
测量对象状态:粉末、固体、液体
测量时间:60s—200s
能量分辨率为:(150±5)eV
管压:5KV—50KV
管流:50uA—1000uA
标准配置
电制冷UHRD探测器
信噪比增强器
光路增强系统
内置高清晰摄像头
可自动切换型准直器和滤光片
的升降平台
加强的金属元素感度分析器
应用领域
钢铁和有色金属检测
水泥检测
矿料分析
(4)型号:HD1000
仪器介绍
XOS公司的HD1000仪器为rohs和涂层表面的有害物质、重属金进行测试而设计。里面配置有x荧光曲面晶体进行单色和聚焦处理,有效的降低了测试背景,使检出限有显著的提高。采用了高清 CCD摄像头进行跟踪测试。
可以对样品中Cd、Pb、Hg、Cr、Ba、Se、As、Sb、Br等元素进行检测。提供人性化的操作界面,操作方便易用。仪器软件有对样品的测试数据、样品高清图片自动保存和编辑的功能。
性能特点
单键操作,简单方便
采用业界的聚光装置,x荧光曲面晶体进行聚光处理
通过使用晶体产生单色光,进行测试,明显减少检测背景干扰。
通过聚光处理,有效降低光管功率的80%,大大延长了光管使用寿命
HD分析仪可分别测定涂层和基体中的铅含量(和其它9种有害元素)――一次完全测定。
测试面积1mm,产品上小的特征也能充分测定。
测试精度和准确性不受表面光滑度和产品形状的影响――光滑或不规则,平面或曲面。
HD 1000分析仪能可靠地测定CPSIA规定中涂层或基体的新标准以下。
分析仪可测试成品、部件或原材料中的铅含量――样品可以是粉末或液体。
HD 1000采用的是无损分析技术,对测试样品不造成任何破坏。
**的简易操作,仪器可以放在工厂地板上,成品库中或试验室里实用。
所有含铅材料都可以有效测定:塑料、木材、金属、纺织品、纸张、玻璃和陶瓷。
HD 1000分析仪的每一个细节和特点均是为达到玩具和儿童用品业的要求而设计和优化的。
x射线荧光光谱仪课件
X荧光光谱仪在铜检测方面的应用方案
 X荧光光谱仪用于各种金属材料中各种化学元素的成分分析。用于原材料检验,冶炼生产过程成分控制,成品元素成分定值及其它应用,以检测铜合金的炉前快速分析和成品分析,控制铜合金中的各成分含量,从而在满足客户的技术要求下控制铜的含量以降低生产成本。
该技术的主要特征为:利用低能量X射线照射测试样品,试样中的一些原子将发射具用自身特征X射线荧光,从而识别这些元素,同时无损检测其含量。天瑞仪器光谱仪采用现代的角度照射及准直器和滤光片自动组合系统,实现了分析光谱的全谱分析。设计的激发光源,使金属材料的成份分析进入了一个新的时代。的分析性能、短的分析时间、低的运行维护成本、智能化的操作模式,使样品分析简单易行。可以广泛适用于铜合金、铝合金、锌合金、镍合金、钛合金、钴合金、不锈钢等金属样品的成分分析。X荧光光谱仪是当今金属分析的选择,同时可以轻松面对未来分析的高要求,不添加任何硬件设施,即可升级分析功能,方便灵活地随生产发展的需要增加分析的元素及合金种类。
铜的相关规定 
我国铜及铜合金标准化工作进展迅速,有关铜的标准分为类:
一为基础标准,其中GB5231—2001规定了加工铜及铜合金化学成份及产品形状;
二为化学分析方法标准,规定了铜及合金中主成份和杂质元素的化学分析方法;
三为理化性能试验方法,其中包括了电阻系数、超声波探伤、涡流探伤、残余应力、脱锌腐蚀、无氧铜含氧量、断口、晶粒度等规定方法;
         四为产品标准,其中包括阴铜、电工用铜线锭、铸造黄铜锭、铸造青铜锭、粗铜、硫酸铜、铜铍中间合金、铜中间合金、铜精矿以及铜及合金加工材标准。 
我国除标准外,还有行业标准和企业标准,为满足产品开发的需要,供需双方还可商定技术条件。
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粉末压片制样法主要分三步:干燥焙烧、混合研磨、压片。有粉末直接压片、粉末稀释压片、用粘结剂衬底和镶边等方法。
①结剂、助磨剂及其他添加剂
当样品本身的粘结力较小时,选择一种合适的粘结剂很重要。粘结剂有固体和液体两种,常用的固体粘结剂有、甲基纤维素、聚乙烯、石蜡、淀粉、滤纸或色谱纸浆、碳酸锂等。用石蜡和苯乙烯的混合物作粘结剂。粘结剂的加入量为样品的10%-50%,过多会影响轻元素的检出限。粘结剂的加入会使分析线强度下降,如果粘结剂颗粒度较大,还会引入颗粒度效应。从吸水性、样品的坚固性、抽真空时间、对仪器污染、制样成功率、成本等方面对几种常用的粘结剂作了比较, 得出低压聚乙烯是一种较理想的粘结剂。
液体粘结剂有、聚乙烯醇(PVA)等。使用液体粘结剂易制成均匀、重复性好的压片,制得的样片加坚固耐用。
在制备试样和标样过程中,除粘结剂外,还可加入助磨剂、内标元素、稀释剂等,液体粘结剂或助磨剂的大优点是不用称量,但压片后要烘干,加入的量也不可过多,一般100g样品中加入几毫升到十几毫升。固体粘结剂和助磨剂等需要准确称量,并且要混合均匀,因此,制样较麻烦,如果加上清洗粉碎容器的时间,有时甚至比熔融法长。在大批量的分析中,多采用直接压片或衬底压片法。
②粉碎技术
可用玛瑙或碳化钨研钵人工研磨,现在较多使用机械振动磨或球磨机,效率很高。一般样品均可粉碎至74μm以下(通过200目筛子),好的可以达到20μm左右。随着粉碎时间的延长,颗粒度减小到一定程度不再变细,如果继续粉碎,反而会发生“团聚”现象。要提高粉碎效率,可以加入固体或液体助磨剂。粉碎时间越长,粉碎容器带来的污染越严重,因此,选择一种合适的粉碎容器很重要。要比较这种污染,可以分析一种很硬的物质(如石英)经粉碎后的污染情况,或对比两种不同粉碎方法的分析结果。在分析痕量元素时,为了提高分析的灵敏度和准确度,这是非常必要的。还有一种污染,是不同粉碎试样间的相互污染。每次粉碎后都要保证容器清洗干净,当样品量较多时,粉碎前可用少量样品预“清洗”两次。
③压片
压样设备常见的有手动或电动液压机,粉末样品装入铝杯或铝环(或塑料环)中,在相应的模具中加压成型。在真空光谱仪中,粉末压片可能会含有空气或其它气体而发生溅射,既破坏了试样表面,又污染了样品室。可先在真空中压制成块,或在氦气光路中测量。为了减少压入片内空气的量,在装样时可轻拍样品,加压时要逐步压力,同时还要保压一定的时间。X荧光光谱仪分析是一种表面分析,尤其对于轻元素,分析时有效层厚度只有几个至十几个μm,表面的污染是致命的问题,同时还要求表面平滑。所以每次压片后都要把模具的表面洗净,隔一段时间还要对塞柱表面(对应于样片被测面)适当抛光。试样在保存过程中也要防止表面污染、表面破损、吸潮、氧化、吸附空气等。好是压片后尽快测量,对于标样、管理样等需长期保存的试样,以粉末状态密封保存较好,需要时临时压片。
④标准样品的制备
X荧光光谱仪分析是一种相对分析,标准样品的制备直接影响分析的准确度。粉末压片法的标样来源主要有三个:用其他方法分析试样;在成分已知的标样中加入某些成分;人工合成。
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X荧光光谱仪粉末样品误差主要来源:
(1) 粒度效应 粉末样品粒度效应是指被测量样品中的分析元素的荧光强度变化和样品的粒度变化有关。一般来说,被分析样品的粒度越小,荧光强度越高,轻元素尤甚。原子序数越小,对粒度越敏感;同一元素粒度越小,制样稳定性越好。一般要求粒度小于200 目。
(2) 偏析 偏析是指组分元素在样品中分布的差异。偏析有两种:粒间偏析:粉末颗粒A 和B 之间混合不均匀;元素偏析:元素分布对粒度分布的非匀质性。如果在采用充分多步混合或微粉碎情况下仍不能解决,可用其它制样手段,如熔融,溶解等。
(3)矿物效应 由于矿物的化学结构或微观晶体形态不同,含量相同的同一元素在不同的矿物中,它们的荧光强度会有很大的差异。所谓的矿物效应不单是针对矿物,在粉末样品的X 荧光光谱仪分析中有着广泛的含义。
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